JW-77酸性光亮镀铜工艺
广泛的电流密度范围都可得到镜面光亮镀层，低电流密度区也可得到极高的填平性和光亮度的镀层。
类别:
详情描述：
01
快速光亮和特高的填平度、光亮度。
02
广泛的电流密度范围都可得到镜面光亮镀层，低电流密度区也可得到极高的填平性和光亮度的镀层。
03
工作温度范围宽，18~40℃都可得到较好镀层。
04
杂质容忍特高，镀层不易起针孔、麻点、白雾。
05
操作简便，光亮剂消耗量少。
06
光亮剂稳定性特高，兼容性能好，能与任何光亮剂混用，转缸易。
07
操作简单，维护方便。材料来源广泛，成本较低。
工艺配方及操作条
| 范围 | 标准 | |||||
| 硫酸铜 | 120~200g/L | 180g/L | ||||
| 硫酸 | 40~90g/L | 70g/L | ||||
| 氯离子 | 50~90 mg/L | 60mg/L | ||||
| JW-77C剂 | 2~8ml/L | 4ml/L | ||||
| JW-77A剂 | 0.3~0.6ml/L | 0.5ml/L | ||||
| JW-77B剂 | 0.4~0.8ml/L | 0.5ml/L | ||||
| 温度 | 18~40℃ | 28℃ | ||||
| 阴极电流密度 | 1.5~8A/dm2 | |||||
| 阳极电流密度 | 0.5~3A/dm2 | |||||
| 阳极(磷铜板) | 含磷0.1~0.3% | |||||
| 搅拌 | 阴极移动或空气搅拌 | |||||
| 电压 | 2~10V | |||||
关键词:
JW-77酸性光亮镀铜工艺
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